技术文章_第(2)页－北京品智创思精密仪器有限公司

半导体晶圆缺陷观测超景深显微镜成像技术行业实践
2026-07-09 半导体晶圆缺陷观测超景深显微镜成像技术行业实践半导体晶圆制造工艺包含光刻、刻蚀、薄膜沉积、化学机械抛光（CMP）、晶圆键合等多道精密工序，制程微小化至纳米、微米级，晶圆表面、边缘、沟槽、TSV通孔、凸块结构极易产生微观缺陷，是影响芯片良率的核心因素。传统二维光学显微镜景深不足、高反光成像失真、无法获取立体形貌，难以识别晶圆高低落差结构的隐性缺陷；扫描电镜（SEM）检测成本高、检测效率低、需真空环境，无法适配量产在线抽检需求。3D超景深显微镜依托多焦面图像融合、大景深高清成像、...
3D 超景深显微镜在精密零部件尺寸检测中的应用研究
2026-07-09 3D超景深显微镜在精密零部件尺寸检测中的应用研究随着装备、精密电子、航空航天、新能源汽车等领域的高速发展，精密零部件呈现微型化、复杂化、高精度化的发展趋势，传统二维检测设备已无法满足异形结构、微观形貌、立体尺寸的精准检测需求。3D超景深显微镜依托多焦点成像、景深拓展与三维重构技术，突破了传统光学显微镜景深不足、仅二维成像、测量精度有限的技术瓶颈，可实现零部件微观尺寸、立体轮廓、表面缺陷、高低落差的非接触式高精度检测。本文系统阐述3D超景深显微镜的工作原理与核心技术，对比其与传...
汽车风窗玻璃清洗液检测接触角测量仪不同玻璃水的要求
2026-07-08 接触角是液滴在固体表面铺展时，液滴与固-气界面的夹角，单位是°，≥90°表示表面具有疏水性，这是衡量清洗液抗水性能的关键指标。二、不同类型玻璃水的接触角要求1）水基型玻璃水没有明确的接触角标准，核心要求是清洗性能，像去除污渍、防冻性等，不强调疏水性。2）疏水型玻璃水需满足接触角≥90°，这是特殊功能验证项，还要通过100次模拟降雨冲刷后的性能保持率测试，也就是性能不衰减。检测项目与范围本检测涵盖以下核心项目：1)基础性能检测：包括冰点、PH值、密度等常规指标；2)清洁性能检测...
超景深显微镜：多行业微观形貌无损检测解决方案
2026-07-07 超景深显微镜：多行业微观形貌无损检测解决方案在精密制造、半导体、新能源、汽车工业、新材料等工业领域，微观形貌检测是把控产品质量、优化生产工艺、保障设备稳定性的核心环节。随着工业产品向微型化、高精度、复杂化、多层结构方向迭代，传统光学显微镜景深不足、成像平面化、无法精准测量高低落差样品、检测效率低等痛点日益凸显，难以满足现代工业高精度、非接触、无损、高效的检测需求。超景深显微镜依托独特的景深堆叠成像、三维重构技术，突破了传统显微设备的光学局限，可实现高低落差、复杂曲面、多层结构...
什么是三维超景深数码显微镜
2026-07-06 什么是三维超景深数码显微镜三维超景深数码显微镜是一种双目观察的连续变倍实体显微镜，专为要求工作距离长，观察视域大的用户而设计，成像清晰，外形美观。三维超景深数码显微镜产品用途：超景深显微镜能将微小的物体加以放大，形成清晰正的立体像。可供医疗卫生、农林、公安、学校、科研部门作观察分析用，也适用于电子工业和仪器仪表行业作精细零部件的检验、装配、修理。连续变倍单筒视频显微镜提供优质的光学系统和耐用可靠的操作机构。超景深显微镜工作距离长，清晰范围大，附件齐全操作方便。可广泛应用于医疗...
超景深三维显微镜系统是如何实现样品的3D成像的？
2026-07-06 超景深三维显微镜系统是如何实现样品的3D成像的？超景深三维显微镜系统是一种先进的显微成像技术，它能够实现样品的三维成像。其工作原理主要基于光学成像技术和计算机图像处理技术的结合。首先，超景深三维显微镜系统通过特殊的光学系统，如立体显微镜或数字全息显微镜，获取样品的二维图像。这些二维图像包含了样品在不同深度层次的信息。然后，通过计算机图像处理技术，将这些二维图像进行三维重建，从而得到样品的三维图像。具体来说，超景深三维显微镜系统的工作流程可以分为以下几个步骤：1、数据采集：通过...
半导体集成电路封装检测仪的检测项目
2026-07-06 半导体集成电路封装检测是集成电路制造过程中至关重要的质量控制环节，直接关系到芯片的可靠性、性能指标和使用寿命。随着半导体技术向5纳米、3纳米甚至更先进制程发展，封装技术已从传统的引线键合、球栅阵列封装，演进到系统级封装、晶圆级封装和三维集成等先进形式，这对封装检测提出了更高要求。封装检测贯穿于设计验证、工艺监控、成品检验等全生命周期，涉及材料特性、结构完整性、电气性能和长期可靠性等多维度评估。在航空航天、汽车电子、医疗设备、工业控制等高可靠性应用领域，严格的封装检测是确保芯片...
打破进口垄断，全域清晰观测：国产超景深 3D 数码显微镜全维度技术解析
2026-07-06 打破进口垄断，全域清晰观测：国产超景深3D数码显微镜全维度技术解析导语在半导体、新能源、精密制造、材料科研等检测场景中，传统光学显微镜存在高倍浅景深痛点：高低起伏样品无法同时清晰成像，反复调焦拖慢检测效率；扫描电镜制样复杂、成本高昂、无法产线快速巡检。近年来国产超景深数码显微镜完成光学、硬件、算法全栈自主突破，以全景深融合成像+三维形貌测量+本地化高适配为核心优势，替代进口设备成为微观质检与科研分析主流方案。本文从核心原理、全行业应用、国产技术特点、分行业标准化解决方案四大板...

共 3304 条记录，当前 2 / 413 页首页上一页下一页末页跳转到第页